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AI带动下CoWoS需求强劲 生态系需协同合作应对挑战

  • 林佩莹台北

SEMICON Taiwan 2024国际半导体展首次举办「3D IC/CoWoS驱动AI芯片创新论坛」,与会贵宾一同探讨3D IC/CoWoS的技术与创新应用。SEMI
SEMICON Taiwan 2024国际半导体展首次举办「3D IC/CoWoS驱动AI芯片创新论坛」,与会贵宾一同探讨3D IC/CoWoS的技术与创新应用。SEMI

随着市场对AI芯片的效能和成本期待日益成长,先进半导体封装技术正朝3D IC与CoWoS方向持续创新以满足市场需求。SEMICON Taiwan 2024国际半导体展在2024年首次举办「3D IC/CoWoS驱动AI芯片创新论坛」,台积电先进封装技术暨服务副总经理何军博士于会中指出,过去2年,半导体市场中约有40%的需求来自AI和HPC。由于Chiplet技术提供了一个整合存储器与逻辑的平台,3D IC正是实现此整合的关键。近年来,AI应用客户不断要求更大规模、更高密度的产品,预计到2027年光罩尺寸将增加至目前的8到10倍,而产品的生命周期也将缩短至每年更新一次。

何军强调,卓越的制程技术是满足这些需求并实现3D IC价值的基础,这包括三个关键:首先,工具要自动化和标准化,工具厂商的软件开发能力将变得至关重要。其次是制程控制与品质管理,以及3DFabric制造平台。第三,未来推动3D IC进展还需依赖整个生态系的支持,包括政府、Chiplet整合、工具与材料供应商、HBM/基板产业等,携手合作共同研发以解决面临的挑战。

日月光资深副总经理洪松井提到,先进封装与AI是互惠帮助的关系。摩尔定律的持续延伸、HBM技术及先进封装为AI提供了强大的算力支持,而AI也提供稳定的需求,推动超越摩尔定律的新技术发展。这种需求还包括加速机器对机器(M2M)沟通的新技术,进一步带动对系统封装的需求。因此,半导体与AI的关系是良性循环与互惠的。

随着CoWoS技术进入量产阶段,3D IC的制造过程仍面临诸多挑战。何军提到,随着Chiplet密度不断提升,散热问题变得更加严峻,而每一层材料与界面都可能成为瓶颈,HBM技术也需要进一步提升,这些问题无法仅靠材料商解决。洪松井补充指出,面板级封装技术相比传统技术能够放置更多的芯片,提升生产效率,但也在机台和材料方面带来挑战。台湾拥有强大的半导体生态系,应透过联盟合作建立标准,制定异质整合的产品Roadmap,这将有助于加速问题解决。

 


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