三星跟进ASML 12寸光罩推动 High-NA EUV估2028导入DRAM生产
- 蔡云瑄／综合报导
三星电子（Samsung Electronics）9月8日宣布携手ASML，为High-NA EUV进军先进DRAM量产铺路，力拼2028年把高数值孔径极紫外光（High-NA EUV）微影设备导...
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