台积电携ASML冲12寸光罩 High-NA全幅视野与成本决定主流化
- 陈玉娟／新竹
先进制程持续往2纳米及埃时代推进，极紫外光（EUV）曝光技术也进入High-NA阶段。DIGITIMES Research分析，High-NA EUV将数值孔径（NA）由Low-NA的0.33提...
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