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High-NA EUV接班人浮现 ASML Hyper NA挑战5纳米单次曝光

  • 梁燕蕙/综合报导

ASML与光学合作夥伴蔡司(Zeiss)的工程师团队,近日于学术期刊《Journal of Micro/Nanopatterning, Materials and Metrology》10月号共同发表研究论文,正式揭露...

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