英特尔详揭18A技术优势 2H25与台积电2纳米正面交锋
- 杨智家／综合报导
英特尔（Intel）在VLSI 2025研讨会发表一篇关于Intel 18A（1.8纳米级）制程的论文，将所有关于Intel 18A制程技术的信息整合其中。预计新的Intel 18A节点将在功耗...
会员登入
会员服务申请/试用
申请专线：
+886-02-87125398。
(周一至周五工作日9:00~18:00)
+886-02-87125398。
(周一至周五工作日9:00~18:00)
关键字
议题精选－EUV量产甜蜜点何时到？
- 英特尔暗示EUV不再是唯一解方？ 台积心里有数、三星借镜
- 英特尔董事：GAAFET、CFET设计 未来将减少先进EUV微影需求
- 台积电暂缓High NA EUV量产 ASML罕开实验室推销
- ASML拥5000供应商网络 对High-NA EUV曝光机有信心
- 美、日建EUV研发中心 韩国仅导入旧设备引产业忧虑
- 英特尔详揭18A技术优势 2H25与台积电2纳米正面交锋
- 中国HBM技术续追赶 长鑫聚焦HBM3E研发
- DRAM三哥突围 传美光率先抢下SOCAMM量产批准
- 日厂追加投资Rapidus？ 2纳米7月试产成决定性关键
- 评析：灵魂拷问中国 没EUV如何出5纳米？DUV硬闯之后？
- 台积A14 2028年投产 张晓强：high-NA EUV不是非用不可
- 三井化学退出三氟化氮半导体材料市场 扩大投资光罩护膜
- 传三星评估存储器光罩外包 韩国光罩供应恐告急？
- ASML拟扩产荷兰 加速EUV交货
- 半导体厂投资放缓 Lasertec下修2Q展望
- 台积张晓强：A14制程仍不采high-NA EUV
- 中国中科院EUV技术新突破 成功建立光源实验平台
