Brewer Science将发表DSA潜力的新材料
- 台北讯
布鲁尔科技(Brewer Science In.)资深科学研究员葛瑞罗博士(Dr. Douglas Guerrero),将在2014年9月5日(星期五)台湾半导体展中的微影光罩技术论坛(Litho/Mask Technology Symposium)担任主讲嘉宾。在本次研讨会中,葛瑞罗博士将探讨「发挥定向自组装技术(Directed self-assembly;DSA)潜力的新材料」,同时,葛瑞罗博士也将会在此场研讨会中分享关于在半导体制程中导入DSA的进程评估。
布鲁尔科技黄光事业处处长尤瑞达(Darron Jurajda)强调:「由于Extreme Ultraviolet(EUV)发展的持续延宕,研发设计出能延伸现有黄光技术的材料或制程显得更为重要。布鲁尔科技一直以来都是站在这些尖端科技的最前线。当然,本公司也会在这次半导体展中发表最新的DSA材料与技术。」
根据葛瑞罗博士的说法,「虽然DSA的发展潜力已经在半导体制程中被推演论证过,但是在这项技术全然变成主流技术之前,简化与采用现今的标准制程也是不可或缺的一环。布鲁尔科技一直致力于发展能简化DSA制程的材料与方法。本公司的研发团队正专注于创造能有多功能与多用途的材料来达成这个目标。」
想了解更多关于DSA材料的最新技术,敬请参加布鲁尔科技「New Materials for Extending DSA Capabilities」Litho/Mask Technology Symposium 2014。
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