台湾超微光学光谱仪驱动半导体检测技术全面升级

在半导体产业中，制程精度直接决定产品良率。随着制程节点持续微缩，薄膜厚度、材料组成与制程均匀性即使出现纳米等级的微小变化，都可能对芯片效能造成显着影响。为因应先进制程需求，产线检测设备必须同时具备高精度、高速度与高稳定性的规格，并能无缝整合至量产环境。

OtO Photonics台湾超微光学针对半导体制造需求，提供涵盖UV、VIS与NIR 180-2500nm波段的高效能光谱仪产品线，可支持各制程阶段的快速、非破坏性检测，广泛应用于薄膜量测、光学临界尺寸（OCD）量测，材料分析与实时制程监控。

强化薄膜与材料量测能力

现代半导体元件采用多层结构设计，对量测系统的讯噪比、光谱分辨率与长期稳定性提出更高要求。OtO光谱仪内建高稳定光学架构，能满足氧化层、氮化层、光阻、矽基材料、III-V化合物半导体以及先进高分子镀膜的分析需求。

产品涵盖UV–VIS机型，适用于氧化层与光阻特性量测；NIR与延伸NIR机型，支持矽、III-V材料与高分子镀膜分析，并具备超宽波长范围，可覆盖180–2500nm。

SideWinder、MeGrez-NIR、SmartEngine、HummingBird与PhekDa-NIR等系列，已被应用于薄膜厚度量测、折射率分析与材料验证等关键制程。

适应量产环境的高稳定设计

半导体晶圆厂环境中，温度、湿度与震动变化频繁，对量测设备的稳定性是一大考验。OtO Photonics光谱仪透过超高温度稳定性设计、专利杂散光校正技术，以及TEC冷却CCD与InGaAs侦测器，大幅降低环境因素对量测结果的影响，有助于减少重新校正次数并提升数据一致性。

支持实时制程控制与自动化整合

随着晶圆厂朝向实时监控与闭回路制程控制发展，量测速度已成为关键指标。OtO光谱仪采用高速CMOS 与InGaAs传感器，适合于制程在线（In-line）与设备端（At-tool）应用，可用于电浆与沉积终点监控、薄膜反射量测、晶圆分类、表面缺陷检测及光阻制程控制等场景。

搭配多重曝光、触发机制、像素合并与USB/UART通讯界面，协助设备商与系统整合商快速开发符合产线节拍需求的检测方案。

弹性平台支持研发与OEM应用

OtO Photonics提供从可携式装置到高解析实验室系统的完整平台，并支持狭缝、光栅、传感器、冷却方式与韧体等定制化选项，能满足研发、量产与OEM整合的多元需求。

随着先进封装、新材料与新制程持续导入，光谱式检测在半导体制造中的重要性日益提升。OtO Photonics 透过稳定、高速且具高度弹性的光谱解决方案，协助产业提升良率、强化品质控管，并加速新技术的导入与落地。