金万亿益SEMICON Taiwan专属技术讲座　百位先进聚焦微污染管理

从材料风险管控、制程微污染监测到晶圆故障分析，金万亿益深化产线实务交流。金万亿益科技

SEMICON Taiwan 2026已于9月4日在台北南港展览馆落幕。半导体微污染监测厂商金万亿益科技（New Fast Technology）2026年以「NEW Standard, FAST Innovation」为参展主轴，并在摊位内设置独立讲座空间，采邀请制举办客户专属技术讲座。三天展期累计近百位受邀客户参与，针对先进制程的微污染管理与产线应用进行交流。

不同于一般开放式的摊位交流，金万亿益将大部分展场空间及资源投入一小时的座位式讲座。这项安排主要考量微污染问题涉及取样方法、分析条件、设备状态与制程信息，短时间的产品介绍难以说明完整的因果关系，客户也不易在开放环境中讨论制程条件、异常状况及良率信息。

本次系列讲座由金万亿益业务部资深经理兼任AMC产品经理詹东宪与FC产品经理张智凯分场主讲，内容涵盖材料风险管控、制程微污染监测与晶圆故障分析。詹东宪表示：「微污染问题往往涉及材料、制程环境与晶圆传送、存储等不同环节，也牵涉客户的制程条件与分析数据，短时间的展场交流很难把问题说清楚。我们希望透过一小时的专属讲座，从实际产线情境出发，与客户深入讨论监测方法、危害风险、数据判读及污染来源追查。」

随着半导体制程演进，晶体管持续微缩，新材料与新元件架构陆续导入，过去可能未造成明显影响的微量化学污染物，如今可能成为影响制程稳定与晶圆良率的变因。微污染管理也不能只依赖分散的检测信息或事后送验，而需整合制程材料、无尘室环境及晶圆表面的分析结果，建立可验证、可判读并支持来源追查的管理架构。

三场讲座分别从制程化学品、无尘室气态分子污染物（AMC）及晶圆表面有机污染切入，探讨分析需求增加后的设备与人力配置、异常发生时的监测与判读，以及如何取得晶圆表面的微污染物化学分析证据。内容未停留在设备规格，而是聚焦分析数据能否与实验室方法相互验证，并进一步利用于制程判断与污染来源追查。

其中，NFA-1007w的开发案例呈现金万亿益以客户问题驱动研发的模式。据金万亿益说明，一家先进制程客户曾持续发现晶圆表面异常，但材料及无尘室监测结果均未显示明显问题，既有工具也不足以确认晶圆表面的有机污染物。金万亿益与客户经过多次讨论、测试及方法验证，逐步建立晶圆表面有机微污染的自动化分析流程。

当其他检测工具只能定位晶圆缺陷区域时，NFA-1007w可进一步分析该区域可能存在的有机污染物，再将结果与材料、环境及设备纪录相互比对，为异常判读与可能污染来源的追查提供化学分析证据。

金万亿益表示，公司以化学分析方法作为设备开发基础，将取样、前处理、仪器分析、品质查核及数据输出整合为可在产线长期运行的系统。在线设备产出的结果也须能与实验室方法比对，确认数据的稳定性与可验证性，才能作为制程风险管理的依据。

金万亿益深耕半导体微污染监测逾30年，目前约有150名员工，研发与制造基地位于新竹竹北及湖口，并在中国、新加坡及日本设有据点。

展望后续布局，金万亿益将持续深化材料、制程环境与晶圆三个面向的分析方法，强化设备自我检核及智能排程，并推动不同监测环节的数据整合。随着半导体客户扩大海外产能，公司也将逐步完善区域技术服务及人才培育体系，以支持设备导入、方法建立及异常处理等在地需求。