英飞凌在与英诺赛科的氮化镓专利侵权诉讼中再赢得胜诉

德国慕尼黑讯

德国慕尼黑地方法院（Landgericht München I）于当地时间2026年7月3日就英飞凌科技与英诺赛科之间有关氮化镓（GaN）技术的另一项专利侵权案件作出裁决，判决英飞凌胜诉。

该案涉及中国公司英诺赛科未经授权使用英飞凌所拥有之氮化镓专利技术。依据本次判决，法院禁止英诺赛科在德国境内进口、销售及行销侵犯相关专利的产品。同时，法院还裁定英诺赛科须向英飞凌支付损害赔偿。

此项判决标志着英诺赛科在一系列诉讼中再次遭遇法律败诉，此前的多起案件亦裁定英诺赛科的相关产品侵犯了英飞凌的专利权。德国与美国的法院与主管机关已多次裁定，英诺赛科的产品侵犯了英飞凌的知识产权。

先前的判决包括德国法院近期分别于2026年6月18日及2025年8月1日的初审中裁定英诺赛科败诉；此外，美国国际贸易委员会（ITC）全体委员会于2026年5月7日亦裁定英诺赛科侵犯了英飞凌在氮化镓技术领域的一项专利。同时，有关英飞凌其他专利项目遭受侵权的诉讼程序，仍在美国持续进行中。

氮化镓（GaN）在实现高性能、高能效的电源系统中发挥着关键作用，广泛应用于再生能源系统、数据中心、工业自动化及电动车（EV）等多项领域。

英飞凌持续巩固其作为氮化镓市场领先的整合元件制造商（IDM）的地位，拥有业界最广泛的智能财产组合，涵盖约450个GaN专利家族。公司始终致力于投入创新并推动半导体技术发展，以应对从低碳化到数码转型等全球面临的重大挑战。