亚泰致力研磨液设备智能化 从问题本质出发创造半导体制程新价值

面对智能化与永续经营的亚泰半导体团队。亚泰半导体

在先进制程推动下，半导体设备厂正面临「良率极大化、成本精细化、永续责任化」三重压力，如何在兼顾效率与ESG的前提下提出具体可落地的解决方案，已成为产业共同课题。刘美凤董事长表示，亚泰半导体设备以「从本质出发」的工程哲学，聚焦CMP（Chemical Mechanical Planarization/Polishing；化学机械平坦化）相关物料供应与入料自动化两大主轴，在成本、良率、ESG三大面向达到最佳化，2025年SEMICON Taiwan展出的一系列产品，就是此思维的具体成果。

亚泰专注于化学液与研磨液供应设备研发，确保制程用液的精准与稳定。技术长徐宏信指出，CMP是晶圆制程中影响良率的关键步骤，此环节使用的研磨液由化学成分与颗粒组成，其配比与新鲜度至为重要。

随着制程演进，需求走向两端，熟成型需静置数小时并在时效内用尽，瞬时型则必须在十数秒内混合并立即使用，稍有延误即失效，这使得研磨液管理设备成为制程稳定性的关键保障。

现在半导体制程的良率要求，已将研磨液管理推升至关键等级，唯有在配比精准、状态稳定与新鲜度三方面同时到位，才能确保平坦度、去除率与速率一致。

技术长徐宏信强调，亚泰以「从本质出发」为核心哲学，先厘清问题根源，再以最有效的方式解决，这套思维不仅是企业的工程准则，更是驱动亚泰产品创新的底层逻辑。以原料桶抽料设计为例，一般在面对原料桶残液问题时，多仰赖额外的抽吸装置或乾脆更换桶体，但前者往往增加设备复杂度与成本，后者则造成原料浪费与废桶处理负担。

亚泰则从根本出发，以倾斜抽料设计简化流程，让原料能自然集中至抽吸点，成功将残液量从约10公升降低至4-5公升，同时保持搅拌均匀度，此举不仅节省昂贵化学原料，也减少废液处理成本与人员暴露风险。

此一「从本质出发」的设计哲学，不仅体现在荣获2024台湾精品奖的iChemLid全自动开盖及输送化学液系统上，更延伸到亚泰对高科技厂房营运价值的整体思考。iChemLid系统透过「抽料」与「混料／辅助搅拌」功能的整合，在原料桶阶段就处理均匀性与沉降问题，藉由抽送过程中的同步搅拌，确保下游配比稳定性。

系统可实现化学桶移载、旋转、对位、开盖／复盖、抽送至上位输送系统的全流程自动化与数据化管理，并与SCADA/FMCS系统整合，建立完整的运转履历与工安纪录，满足现代化工厂对于制程追溯性的要求，为半导体厂打造完整且高效率的化学液自动化解决方案，并带来良率提升、成本降低、ESG减废与资源再用、自动化扩展兼容性等四大效益。

在新兴亚洲市场布局方面，亚泰以在地化团队提供客户实时且完善的服务，将推动的「新亚泰」策略，则是结合亚泰既有专业技术与当地材料、供应链，借此降低断链风险并维持服务能量。

面对快速演变的半导体市场变化，技术长徐宏信表示亚泰积极投入研磨液设备自动化，目前已取得多项专利，并同步推进样品制作。未来将持续以「从本质出发」的核心哲学，结合技术创新与永续价值，投入CMP研磨液设备、自动化系统的研发，并逐步拓展至更多制程节点，协助客户在效率、成本与ESG三方面取得平衡，成为高科技产业值得信赖的合作夥伴。