钻石半导体重大突破 日本Orbray成功开发30mm大面积钻石基板技术
日本精密零件与材料制造大厂Orbray株式会社宣布,在钻石半导体领域取得关键进展。该公司研发团队成功确立了30mm×30mm大面积、高品质(111)单晶钻石自立基板的制备技术,并解决了长期困扰业界的「孪晶(双晶)」生长难题。此研究论文已于2026年3月11日发表于应用物理领域权威国际期刊《Applied Physics Express》。
从20mm到30mm:突破尺寸极限
钻石被誉为「终极半导体」,具备高耐压、高热导率及高载子迁移率等优异特性。其中,(111)晶面因更易实现n型掺杂控制,并有利于量子传感器中NV中心(氮—空位中心)的自旋取向统一,被视为量子与电力电子领域的理想材料。
然而,(111)钻石在生长过程中极易产生孪晶,过去尺寸通常仅限于数mm。Orbray继2025年3月发布20mm 基板后,本次研究进一步将尺寸推升至30mm × 30mm的世界级水准。
关键技术亮点:控制蓝宝石基板倾斜角
本研究透过微波等离子体CVD法(化学气相沉积),在蓝宝石基板上的铱缓冲层进行钻石生长。研究团队发现,实现高品质结晶的关键在于:1. 台阶流生长(Step-flow growth): 采用具有特定方向、大角度倾斜晶面的蓝宝石基板,能有效引导钻石晶体依序生长。
2. 抑制孪晶: 研究明确指出,朝向 〈11-20〉 的特定倾斜方向对于抑制孪晶至关重要。3. 结构验证: 经由X射线绕射测量,证实该30mm基板在整体范围内均为无孪晶的单晶结构。
未来展望:迈向极限环境与量子传感应用
Orbray表示,这项技术不仅推动了高耐压功率半导体的研发,也为高灵敏度量子传感器及极限环境电子元件奠定了材料基础。未来,Orbray将持续朝向扩大基板尺寸、提升结晶纯度,以及开发适用于元件制造的掺杂(Doping)基板技术迈进。
若欲了解更多关于(111)钻石基板之技术规格,请联系Orbray台湾授权合作夥伴:鸿浥科技有限公司 (Hong Year Technology)。






