DAS Environmental Experts推出ALCEA适用于半导体厂的整合脱硝装置

ALCEA安装示意图。DAS Environmental Expert GmbH

DAS Environmental Expert GmbH（以下简称DAS）于2026年9月2日宣布推出全新氮氧化物（NOx）二次减排系统ALCEA，专为半导体制造厂废气处理而设计。ALCEA安装于产生NOx的废气处理设备排气端，可实现最高达95%的NOx去除效率，其触媒催化反应模块直接整合至排气管道中，有效减少Sub-Fab额外占地需求。再者，DAS将于SEMICON Taiwan 2026期间（2026年9月2日至4日）于台北南港展览馆一馆J2346摊位正式展示ALCEA。

在半导体晶圆厂中，新增污染防治设备往往必须与有限且昂贵的Sub-Fab空间竞争，同时制造业者也持续追求降低公用设施消耗、减少维护需求以及避免生产中断。ALCEA透过高度整合的系统架构有效因应挑战，其触媒催化模块直接安装于排气管路内，而非采用独立落地式处理设备。此方案可灵活导入既有排气系统，并适用于各类会产生NOx的废气处理技术之后段处理。

DAS首席业务发展长Dr. Guy Davies表示：「晶圆厂无法将排放治理、能源效率与空间利用视为彼此独立的议题。透过ALCEA，我们将高效能的DeNOx技术部署于最具价值的位置，也就是现有排气制程之中。其成果是一套可快速导入既有设施的解决方案，在维持低占地与低公用资源需求的同时，可达成最高95%的NOx去除率。这正是迈向零排放Sub-Fab所需的实用创新技术。」

无需特殊药剂注入的电浆增强触媒催化技术

ALCEA采用DAS已获市场验证的Plasma-Enhanced Catalytic技术。透过Non-Thermal Plasma产生高活性的Reactive Oxygen Species，促进触媒催化表面反应。在此过程中，NOx被转化为氧化程度更高且具水溶性的含氮化合物，并可于后端Central Wet Abatement System中进一步去除。此乾式氧化技术无需注入氨气等特殊化学药剂，且触媒催化材料可重复使用。

依据NOx浓度、前段处理条件以及电浆功率设定不同，ALCEA可处理最高达5,000 slm的气体流量，并实现最高95%的NOx去除效率。系统功耗最高约为3.2 kW，实际耗电量将随NOx浓度而异。

此外，ALCEA可支持多达两组Catalyst Duct，适用于双系统配置或同时连接两套独立Point-of-Use Scrubber。透过制程冷却水设计、可重复使用触媒催化材料及低维护需求架构，有助于无缝整合至晶圆厂既有制造环境并降低停机时间。

于全球领先半导体生态系中开发完成

ALCEA的研发由DAS与工业技术研究院（ITRI）合作开发，其中DAS台湾团队扮演关键角色。本专案结合应用研究、在地工程技术与贴近半导体客户需求的开发模式。

ALCEA的推出亦代表DAS废气处理产品组合的重要扩展，新增整合型Post-Abatement DeNOx方案，可同时满足新建晶圆厂及既有厂务升级需求。

选择于SEMICON Taiwan正式发表ALCEA，不仅展现DAS台湾团队在客户导向创新上的贡献，也彰显公司持续投入在地价值创造的承诺。参观者可至DAS摊位进一步了解ALCEA及DAS于废气与废水处理领域的完整解决方案。欲了解更多ALCEA产品信息，欢迎到官网浏览。