奇鼎科技掌握高端制程加速10纳米实现

高端制程环控加速10纳米实现

由于10纳米制程预计较16纳米制程毛利率提升10%，吸引全球目光，因此为加速下个时代产品的演进，全球前五大晶圆代工厂皆视2016年为决战10纳米之巅，纷纷为了加速10纳米制程的实现而各别投入资源及方法。过去，半导体制程一直遵循摩尔定律发展，也就是约每隔 2 年推出新制程。然而，随着10纳米的屏障难以轻易跨越，此阶段已出现时代精进的落后，各晶圆制造大厂无不更积极了解产品精进相关方法，此范围包括晶圆产品及生产环境控制。当晶圆制造的高端演进不再只讨论晶圆本身，更有趣的是如何藉由精准控制生产环境，了解生产环节与晶圆品质与技术演进的关系；生产环境中的「空气」内包含何种气状分子污染物，成了不可不知的重要问题。

奇鼎科技协助台湾晶圆代工第一大厂多年来探讨制程环境内空气污染物与生产品质的关系，例如IPA、Acetone在晶圆制造时造成阻值增加，Contact Layer阻值飘移导致Contact Window变差，并影响铜制程良率明显下降；或是高沸点VOC沉积在光罩上，造成显影时重复出现的Mask Defect，影响曝光制程结果及良率。这类制程环境中的微污染物，可藉由奇鼎科技独家专利的线上气体取样系统形成的整合产品IAE-1000 (In-line AMC Monitoring)，连结多个站至分析仪器整合站，24小时连续观测不同制程环境内的化学物种，以实验室等级ppbv的精细度来执行制程环境监控的标准，达到完整了解制程环境，进而做到精准控制的决策。IAE-1000产出连续不间断的多点分析数据，整合大数据的数据架构，可提供品质、生产、研发等单位环境与产品连结的关键因素。除了空气侧的精准分析，IAE-903/905系统提供了液体侦测微量金属物质的多点在线方案，针对清洗液的深度分析进而完整掌控接触产品的环境物质。

2015年的SEMICON Taiwan半导体大展逢20周年盛大展出，奇鼎科技在南港展览馆一楼展馆3042摊位提供许多半导体及高端面板制程的为环境监测、控制、厂务AMC节能控制等整体方案，将实机展出有机气体在线分析系统，演示气状分子污染物的多点在线连续侦测概念，将制程环境与先进制程品质关系做准确连结。展出现场并备有关空气品质及健康小物的精美礼品，邀请企业先进前来参观指教。