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做愈多赔愈多? 晶圆代工产业异象 靠政府打续命针

  • 陈玉娟新竹

Rapidus宣布日本首台EUV曝光机移入位于北海道工厂。ASML
Rapidus宣布日本首台EUV曝光机移入位于北海道工厂。ASML

全球晶圆代工产业发展竞况近年出现重大变异,最新战况更是诡谲。晶圆代工业者表示,近5年来战况变动剧烈,三星电子(Samsung Electronics)、英特尔(Intel)等陷入困境,苦思脱困解方;日本政府砸下重金扶植Rapidus越级跨入2纳米制程;中芯则是遭美国禁令紧掐下,还不计代价为华为代工。

台积电创始人张忠谋多次提及美国前总统雷根曾说:若有一个人说自己从政府部门来,要帮企业的忙,其实对企业的助益相对有限。」也就是Rapidus、中芯二大厂未来营运表现恐受限。

自7纳米以下先进制程台积电几近独霸地位,让全球晶圆代工产业划成两个世界,甚至三个冷热分明世界。

过去拼命在台积电后面追赶的联电,2000年决定和IBM合作研发铜制程,就与台积电在产能、技术上的差距越来越大,最终联电在共同总经理王石、简山杰上任后,2017年宣布不再投资12纳米以下制程。

而格罗方德(GF)评估先进制程是烧钱黑洞后,2018年也释出无限期搁置7纳米FinFET研发计划。

5年后,7纳米以下晶圆代工战场更进化为「一个人的武林」。台积电董事长魏哲家信心表示「台积电已无竞争对手。」

2024年晶圆代工竞局除了台积电独大、三星与英特尔进退两难,IDM模式已不合时宜外,相当特别的是,拥有政府银弹奥援的Rapidus与中芯持续前进,但处境并不乐观。

日本现有制程停留在40纳米,Rapidus直接跳级进入2纳米,如果量产成功且获利,不就代表着三星、英特尔与台积电至今累积投入难以估算的千亿美元金额,按部就班推进制程技术门槛并不高?

三星、英特尔近年弯道翻车,Rapidus却自许在几年内就追上台积电2纳米,信心与勇气令供应链也难以理解。由于日本政府与IBM的支持,Rapidus近日宣布将日本首台EUV曝光机「NXE:3800E」,移入北海道工厂。

Rapidus社长小池淳义更表示,1台或2台的EUV曝光机将无法达成Rapidus设定的产量目标。晶圆代工业者指出,光是设备支出恐怕将超过Rapidus的预估,买愈多恐怕赔愈多。

尽管Rapidus宣称已与数十家客户进行洽谈,然半导体业界都知道,Rapidus的2纳米制程完全未开始画出学习曲线,客户也无法确定良率与效能表现,绝对不会轻易释单。

Rapidus表示,已陆续派遣150名技术人员至美国IBM研究中心Albany Nanotech Complex进行研发,目前部分人员已回到日本北海道工作。2025年4月试产产线启用时,预计将有300~400名员工在厂工作。

事实上,此研发人力规划与三星、英特尔及台积电差距甚大,也就是如果400名研发人员就可以做到2纳米,三大厂或许应该大举展开裁员与停止招募人力?

Rapidus的2纳米预计2025年4月开始试产,2027年进行量产,而台积电则是2025年下半就将进入2纳米时代,目前月产能已有5,000片,已有苹果(Apple)、超微(AMD)、英特尔等多家大客户订单确定落袋。

由于2纳米代工报价飙上3万美元,产品需要且用得起的客户也就几家,Rapidus欲获得有足够订单规模的客户青睐,难度相当高,日本政府能支持Rapidus多久,预估2025年底恐怕就会提前面对现实。

另一大厂中芯肩负中国半导体自主大计重任,在EUV与高端DUV设备采购受限下,仍须咬牙为华为代工生产,其以DUV设备做到7、5纳米所需代价相当高,至少需要四重曝光/蚀刻,不只耗时且成本高昂,还有自对准制程将致使良率、速度大打折扣。

中芯接下来若不顾良率,持续为华为代工冲量,将难以摆脱做愈多赔愈多窘境,扣除政府补助与在水电、土地、税负优惠等,中芯获利能力甚难提升。

责任编辑:朱原弘