抢入High-NA EUV曝光机 英特尔此局是对是错？
- 梁燕蕙／综合报导
英特尔（Intel）日前高调宣布已在美国奥勒冈州研发晶圆厂，收到ASML第一批出货的高数值孔径（High-NA）极紫外光（EUV）曝光机EXE:5000系列，预计很快就会开始组装下一代微影设备，用于制程开发。预计英特尔可能将在2月...
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