抢入High-NA EUV曝光机 英特尔此局是对是错?
- 梁燕蕙/综合报导
英特尔(Intel)日前高调宣布已在美国奥勒冈州研发晶圆厂,收到ASML第一批出货的高数值孔径(High-NA)极紫外光(EUV)曝光机EXE:5000系列,预计很快就会开始组装下一代微影设备,用于制程开发。预计英特尔可能将在2月...
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