监控气体排放状况 发展新制程不可忽略

志尚仪器总经理杨玉山。

在消费者对轻薄短小移动设备需求渐增下，驱动全球半导体产业朝向40nm、20nm 、16nm制程迈进，只是也衍生出NH3、NMP、有机气体、酸性气体等问题，且易在晶圆上形成T-Top现象。关键在于193nm制程系采用氩氟(ArF)雷射，以及157nm制程上采用氟分子(F2)雷射，而在此波段上光波频率极易被微量的挥发性碳氢化合物所吸收，因此会造成当雷射光束穿越光径时强度的减少。

志尚仪器总经理杨玉山指出，由于SO2、NO2等气体，会因臭氧强大氧化力变成硫酸盐或是硝酸盐类，而沉积于步进机的镜片表面，因而造成透光率下降的问题。唯一解决办法只有当上述状况发生时，必须将光学系统进行清洁，只是光学系统相当脆弱，常常会因清理时不小心破损而造成灯管及停机等重大的损失。因此，持续监测机台内部的微量挥发性有机气体及酸性气体，成为发展下一代制程不可忽视的重要工作。

因应半导体产业发展需求，志尚仪器可提供在线排放管道暨AMC酸硷气体分析系统，当空气中的污染气体散布于镜片表面时，运用吸收液流经专利技术的纳米TiO2涂布，将酸硷气体吸收，再结合离子层析仪进行连续自动监测。此外，这款产品可提供洁净室环境微污染控制制程监测、烟囱及制程烟道气体排放监测、大气环境酸硷气测，相当适合用于研发与学术研究等领域。