上海微电子展出SMEE 300系列光刻机

上海微电子SSB300/10A步进投影光刻机，适用于2-6英寸基底LED的PSS和电极的光刻工艺。

致力于投影光刻机研发、生产、销售与服务的上海微电子装备有限公司(SHANGHAI Micro Electronic Equipment；SMEE)，将于6/17至19来台参加2014台北国际光电周暨LED照明展，展出用于封装以及LED产业光刻机设备。

此次，将展出SSB300系列步进投影光刻机，该系列机台适用于2？6英寸基底LED的PSS和电极的光刻工艺。可以应对大翘曲蓝宝石基底的曝光，能够实现2？6英寸基底的自动切换，能够在生产中实时监测基底面型，保证客户在使用过程中不再受吸盘污染的困扰。

采用高性能缩减式物镜确保亚微米分辨率和高曝光均匀性、精密特制运动台系统实现高精度的图形拼接与精确的套刻。具有低使用成本、高曝光均匀性、高产能等特点，可满足LED生产线的各种使用要求。除此之外，该系列机台还能够适应矽和SiC等多种基底的曝光、可选背面对准配置，将机台的应用扩展至MEMS领域。

上海微电子装备有限公司成立于2002年，公司产品可广泛应用于IC制造与先进封装、MEMS、3D-TSV、TFT-OLED、LED、Power Devices等制造领域。上海微电子装备有限公司致力于以极致服务、创造高端产品、创造客户卓越价值，全方位为顾客提供优质产品和技术服务。

上海微电子装备有限公司已通过ISO27001信息安全、ISO9000品质管制和ISO14001环境管理等体系的国际认证，力求为客户提供持续 、稳定、高品质的产品和服务，并履行一个优秀的高科技企业的社会责任。

目前已建立了一整套与高科技企业相适应的知识产权管理体系与机制，先后被评为「上海市专利工作和知识产权示范企业」、「全国企事业知识产权示范创建单位」。 

欢迎业界先进6/17至19莅临南港展览馆M951摊位参观，或上网查询相关产品服务：http://www.smee.com.cn/ 。