台湾艾万拓邀您一同探讨半导体市场发展走向　进行深度趋势分析与应用观察

半导体的制程方法是在矽半导体上制造电子元件(如：动态存储器、静态存储器、微处理器…等)，而电子元件之完成则由精密复杂的集成电路所组成；半导体之制作过程是应用芯片氧化层成长、微影制程、蚀刻、清洗、杂质扩散、离子植入及薄膜沉积等技术，所需制程多达200至300个步骤。集成电路的制造过程主要以晶圆为基本材料，经过表面氧化膜的形成和感光剂的涂布后，结合光罩进行曝光、显像，使晶圆上形成各类型的电路，再经蚀刻、光阻液的去除及不纯物的添加后，进行金属蒸发，使各元件的线路及电极得以形成，最后进行晶圆探针检测，然后切割成芯片，再经黏着、连线及封装等组配工程而成电子产品。

而微影制程可说是半导体前段制程中最关键的步骤，尤其面对目前半导体制程不断地快速演进，微影技术已成为现今影响晶圆制程技术精进的重要关键。而在微影制程的曝光、显影和蚀刻后，必须完全的去除洗净光阻剂，以确保后续制程的洁净度，所以光阻剂去除的品质也攸关整体制程的品质与良率。

有监于此，台湾艾万拓股份有限公司(Avantor Performance Materials)为了提供台湾半导体产业更为贴近与实时的服务，特别于新竹县竹北市设立分公司与实验室，并为了让市场能够更精确的掌握半导体制程技术与发展趋势，将于2011年9月20日假新竹国宾大饭店举行「开幕酒会暨半导体产业趋势论坛」，期望邀请各位业界先进莅临参与。

趋势论坛将邀请重量级业界贵宾分享半导体制造等完整的关键技术信息，台湾艾万拓CEO Mr. Jean-Marc Gilson与DIGITIMES黄钦勇社长也将针对半导体市场的发展走向，进行深度的趋势分析与应用观察，期待与各位先进在会中共同切磋交流，共创产业的新面向。活动网址：http://www.digitimes.com.tw/seminar/Avantor_20110920.htm。