永光化学LED正负型光阻剂 已成两岸客户首选 智能应用 影音
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永光化学LED正负型光阻剂 已成两岸客户首选

  • 李佳玲

永光化学光阻剂EPI 612应用于PSS制程示意图。
永光化学光阻剂EPI 612应用于PSS制程示意图。

永光化学于1995年投入电子化学品技术研发,是唯一国产IC光阻剂供应商,历经16年不间断的创新研发建立自主技术,已在半导体黄光微影制程化学品供应链上扮演相当重要的角色。永光在2011年半导体展期间,在世贸一馆884摊位展出半导体以及LED领域相关应用产品。

永光总经理陈伟望表示,回顾2010年,永光化学除了持续开发IC制程关键化学品,也成为LED产业制程关键化学品的主要提供者。

永光化学光阻剂FSR 110应用于COF示意图。

永光化学光阻剂FSR 110应用于COF示意图。

近1年来,智能手机(Smartphone)与平板电脑市场的大幅成长,也刺激带动晶圆代工及相关产品需求,根据工研院产经中心之产业年监显示,2011年全球IC产值预估达3,137亿美元,较2010年成长4.5%;台湾在芯片市场、驱动IC及晶圆代工方面,总产值预估较2010年成长8.7%。

陈伟望指出,为因应半导体先进黄光微影制程需求,永光化学推出几款相对应产品:EPG 535光阻剂,是1款G-Line (4寸、6寸厂)、I-Line(8寸厂)通用的光阻剂,其具有耐热性佳、附着性佳、高感光性(较低的曝光能量)、较大的制程宽容度,在制程上比较容易加工以及高分辨率等特性,其分辨率可达0.48μm。

另外,EPG 590光阻为正型厚膜光阻剂,主要供货给太阳能硅片厂以及被动元件厂商,其具有高穿透性、附着性佳等特性,可应用于10~50μm光阻膜厚的金与铜之电镀制程,以进行金凸块或铜线路的制作。在不同的蚀刻制程下,光阻图形皆能展现不脆裂与高解析的优点。

EPI 680光阻是一高感光性的I-Line的光阻剂,应用在保护层(Passivation Layer),具有较大的制程宽容度,其分辨率可达2μm,目前已推广到数家晶圆代工厂。

陈伟望表示,有监于LED在显示器背光源以及照明市场庞大商机,永光比同业更早切入LED光阻产品的研发与供应,加上拥有半导体优异技术设备,LED正负型光阻产品在两岸市场已成为客户首选。

永光化学目前已经具备LED完整的上中下游完整的供应能力。不仅从上游基板的抛光研磨液,到中游光阻剂、显影液等制程化学品供应,及下游封装制程也积极推出关键封装材料。

近年来LED照明朝高亮度发展,永光电子化学推出EPI 612光阻剂,应用在蓝宝石晶圆表面图案化PSS(Pattern Sapphire Substrate),其分辨率可达0.64μm。将蓝宝石基板的表面蚀刻图案化之后,可有效提升LED的发光效率,降低LED发光成本。

因应2011年IT市场的需求量放大,带动LCD面板驱动IC的成长,而驱动IC的封装主要是使用在LCD COF(Chip on Film)的制程技术,面对愈来愈薄型化、软板线路愈来愈细情况,永光化学推出FSR 110光阻(正型光阻剂),符合业界通用型1% Na2CO3或0.1% KOH显影系统,其分辨率可达5μm的高分辨率、高感光性(较低的曝光能量)、较大的制程宽容度等特性。另具有可挠性与良好附着力,因此可以涂布在软性基材上,是一款适用在高端手机、高端面板驱动IC用的高端产品。永光已经提出该项产品专利申请,目前产品已进入客户量产验证阶段。