针对纳米级制程、未来在Hi-K dielectric与金属匣极开发应用及材料使用台湾赛孚思科技展出最新研发成果与实测成绩

台湾赛孚思科技(SAFC Hitech Taiwan)主要针对纳米级IC制程、未来在Hi-K dielectric以及金属匣极的开发应用及材料使用，展出厂内研发成果及与设备商/国际大厂合作所得到的实测成绩，并针对先进制程用料的研发成果及量产时程，于SEMICON TAIWAN展出期间与客户做面对面的沟通。同时针对薄膜太阳能电池的ITO金属层及日渐受重视的CIGS太阳能电池用料，展示厂内协同客户研发制程及材料的成果。

台湾赛孚思科技的前身Epichem Group是欧洲第一家制造半导体化学材料Silane的厂商，供应半导体客户，领先业界。随后进入光电产业所需之三五族化学品制造领域Metal-Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD)，成绩裴然。经过25年的不断研发创新，已成为世界知名品牌电子化学材料制造商。在光电产业LED所需之 MOCVD领域，更是从生产到销售一贯化具领导性专业供应商；在半导体新制程方面，目前产品系列已扩展至半导体纳米制程之ALD- CVD Precursors。现今本集团在英国、美国、日本及台湾设有四座生产工厂，SAFC Hitech 在美国总部有总面积广达七百公顷之制造工厂，客户横跨欧、美、亚三洲，已建立绵密之国际行销网络。

台湾赛孚思科技总经理林正诚表示，该公司在化合物半导体产业拥有超过25年的研发制造及供应经验，对台湾LED产业起飞与群聚成形及在地供应贡献良多。2001年开始投入IC半导体先进CVD / ALD制程材料的研发，由2003年开始于市场获致极大成功，除了DRAM产业使用的Hi-K材料 (Al, Hf, Zr ) 占极高之市占率外，45纳米以下逻辑IC所采用之金属层 ( Hf, Ta, La)亦获国外内大厂及设备厂采用。

台湾赛孚思科技在台湾提供的产品包括化合物半导体磊晶制程 ( TMGA / TEGA / TMIN / TMAL / CPMG / DEZN 等 )/ IC半导体先进制程 HI-K dielectric Al2O3, HfO2, ZrO2, STO, BST / METAL TiN, TaN, La系列材料)。在技术与服务项目则有: 高纯度产品大量制造及纯化，可高达40种金属元素的ICP分析。针对不同制程与材料特性的钢瓶设计，使材料的流量更稳定、使用效率更高; 钢瓶内部残料的侦测系统， 配合中央供应系统(LDS, Liquid Delivery System)的应用，与客户设备端的界面沟通，可使材料随时维持足量供应，减少停机更换的时间，拉长设备的稼动率及量产时间。台湾赛孚思科技展示摊位在世贸一馆B区977号。