半导体气体控制有学问 电技术有看头
半导体设备内的 Chamber(腔室)内的气体控制其实是一门既基础又重要的学问,晶圆良率表现好坏与否,各类气体控制与动力是相当重要的关键。然而,在设备内的阀门控制上,除了流量、压力等数字上的表现,悬浮微粒的多寡与否,也会对晶圆良率带来相当大的影响。因此,如何又快又准地控制阀门,就成了相当重要的关键。
来宾:飞斯妥技术总监卢昭序
本集重点:
1. 台美韩半导体业者皆需压电技术精准控制阀门
2. 不仅用在阀门,先进封装场域也适用
3. 收购AI技术公司,为半导体设备零组件导入预测性维护
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