应材推3款「埃」级设备深耕2纳米制程　助GAA突破原子级缺陷瓶颈 智能应用 影音
繁体版 简体版
评估申请
登入
231
技钢
itts
热门关键字
#AI
#台积电
#CPO
#服务器
#NB
#存储器
#PCB
#联发科
#COMPUTEX
#富士康

应材推3款「埃」级设备深耕2纳米制程　助GAA突破原子级缺陷瓶颈

  • 江承谕／首尔

随着AI运算带动半导体产业2纳米以下先进制程竞争，每一个原子级的缺陷都可能成为功耗与良率的瓶颈。

会员登入


【范例：user@company.com】

忘记口令 | 重寄启用信
记住帐号口令
★ 若您是第一次使用会员数据库，请先点选
【帐号启用】

会员服务申请/试用

申请专线：
+886-02-87125398。
(周一至周五工作日9:00~18:00)
会员信箱：
member@digitimes.com
(一个工作日内将回覆您的来信)
订阅DIGITIMES 移动版
关键字
议题精选－应材提前10年部署迎AI时代