ASML EUV已无法追上 韩国半导体业界盼以X光曝光技术逆转
- 江承谕／首尔
随着全球半导体技术竞争加剧，加上牵涉国家战略的保护主义趋势，韩国业界强调设备本土化的重要性。特别是当前完全依赖荷兰ASML的EUV曝光设备的处境，认为必须投入尚在研发初期的「X光曝光技术」，确保半导体产业长期竞争力，并摆脱对单一供应商的技术依赖。
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