减碳从制程气体下手 三星携大金开发出G2蚀刻气体
- 蔡云瑄／综合报导
在全球暖化危机下，三星电子（Samsung Electronics）与日本大金工业（Daikin Industries）合作，成功开发出用于半导体蚀刻制程的替代气体「G2」，以取代温室气体排放量高的三氟甲烷（CHF3），预计2026年起正式导入制程。...
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