中国加速曝光机突破 上海微电子专利揭关键技术
- 黄琼文／台北
在美国对中国高端半导体设备的出口限制不断紧收之际，中国正悄然加快曝光机技术自主化。据悉，中国曝光机新兴设备厂宇量昇已将其自行开发的28纳米浸润式DUV曝光机送入中芯国际进行入厂测试（in-fab testing）。这款机台采浸润式光学架构...
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