三星4纳米测试S&S Tech EUV空白光罩 韩国材料自产再推进
- 蔡云瑄／综合报导
三星电子（Samsung Electronics）传于实际量产环境的4纳米晶圆代工制程中，测试S&S Tech的极紫外光（EUV）空白光罩（blank mask）。为三星首度将S&S Tech的EUV空白光罩样品导入量产线验证，被视为推动韩国关键材料自产的重...
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