采DUV多重曝光跨入5纳米制程 新凯来杜立军:仍忧影响良率 智能应用 影音
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采DUV多重曝光跨入5纳米制程 新凯来杜立军:仍忧影响良率

  • 李佳翰综合报导

中国芯片设备制造商深圳市新凯来工业机器(SiCarrier Industry Machines),在SEMICON China 2025上展示多款新芯片生产设备产品,声称可利用自主开发设备生产先进芯片,以因应美国持续扩大管制对中国先进芯片与制造设备出口。...

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