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应材推3款「埃」级设备深耕2纳米制程　助GAA突破原子级缺陷瓶颈

  • 江承谕／首尔

随着AI运算带动半导体产业2纳米以下先进制程竞争，每一个原子级的缺陷都可能成为功耗与良率的瓶颈。应用材料（Applied Mater...

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