三星斥资1.1万亿韩元导入High NA EUV 启动先进制程绝地反攻
- 陈玟静／综合报导
三星电子（Samsung Electronics）传将于2026年上半前投入约1.1万亿韩元（约7.75亿美元），引进两台ASML最新一代极紫外光（EUV）微影设备，亦即高数值孔径极紫外光（High NA EUV）机台。此举也被业界认为，是三星正式启动技术反攻...
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