遏制中国「小蔡司」曝光机研发 拜登卸任前一网打尽
- 谢生辉／台北
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随着全球半导体竞争加剧，中美高科技领域对抗进入新阶段。为遏制中国本土研发先进半导体技术，特别是微影曝光领域，美国商务部近期针对新一轮中国本土企业加强打压，就在美国总统拜登（Joe Biden）卸任前，针对中国本土曝光机与关键零组件展开一网打尽的封锁。
曝光机，尤其极紫外光（EUV）机台，是半导体制程中最关键设备之一，也是中国能否继续下探7纳米以下先进制程的关键，由于ASML进口先进机型已遭禁，中国将突破曝光机视为最核心的科技自主可控目标。
然而，随着中国本土企业曝光机技术方面不断取得进展，相关进展也愈趋低调神秘，但美国持续加大打压力度不见手软，尤其是针对曝光机相关企业的严加封锁。
就在拜登卸任前，美国商务部近日公布11家实体清单，其中，中国科学院长春光学精密机械与物理研究所、中国科学院上海光学精密机械研究所全部遭入列，最受瞩目。
过去几年，上海微电子设备（SMEE）、长春精密光学、中科院等半导体先进研发机构，就研发和生产本土曝光机台已取得一定程度进展，虽然研究设备未达EUV水准，但也屡传取得突破。
美国政府担心，除了对外施加围堵，中国也日益掌握自主研发，进一步会削弱美国与其盟友在半导体领域的主导地位。因此，拜登政府在其任期即将结束前给予回马枪，「补强」所有相关业者，进一步限制中国本土曝光机相关领域投资与技术交流。
最早已被列入禁令清单的上海微电子设备是中国知名的曝光机研发单位，主要专注于深紫外光（DUV）曝光机研发，宣称已成功投入90纳米、65纳米等制程节点曝光技术。
此外，中国政府也积极鼓励当地高等研究单位增加对半导体设备研发投入，提供相应资金支持。据了解，中国科学院长春光学精密机械与物理研究所（简称长春光机所）已开展多项关键技术研究，主要是核心零组件光学透镜、反射镜等有一定进展。
长春光机所1999年，由长春光机所、长春物理所合并而成，是中国首家本土光学领域研究所，现有18间研究部室，6个国家级重点实验室工程中心、5个中国科学院重点实验室工程实验室，及2个国际联合实验室。
另一间中国科学院上海光学精密机械研究所（简称上海光机所）成立于1964年，也是中国最早、规模最大的雷射光束技术研究所，以光电子领域雷射光束、光学物理与元件材料研究为主。上述两家科研单位可说汇集了中国光机电领域的顶尖人才。
对曝光机台来说，上游精密光学透镜与相关的光机电整合就是核心关键，以ASML来说有上游供应商蔡司（Carl Zeiss）紧密配合重要性不言而喻，而这两间掌握精密光学的单位，便在中国有「小蔡司」称誉，在精密光学领域扮演十分重要作用，特别是提升中国本土曝光机的精度方面。
业内人士分析，中国曝光机研发绝非短期内能「逆转胜」，然而，随着中国不断加大半导体自主技术投入，未来国家级基金持续增加投资下，很可能倒逼出令人意外的结果，促使愈来愈多本土企业开始联手参与曝光机研发与合作。
责任编辑：何致中
