逻辑、记忆芯片产线需求声声催 ASML EUV/DUV左右逢源
- 梁燕蕙/综合报导
英特尔(Intel)CEOPat Gelsinger日前宣称,将率先导入ASML新时代之高数值孔径(high-NA)极紫外光(EUV)扫描机,预计在单一曝光EUV制程上,可望比多重曝光EUV制程撙节更大幅度的光罩成本支出。ASML更表示,high-NA降低...
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