康铨应化提供LED全制程黄光材料解决方案

康铨应化高分辨率厚膜光阻，F.T=125μm, Dot=25μm。

目前光电产业各种元器件的线路与图案制作，大多数都采用黄光微影蚀刻制程，黄光制程的优点是复制精度高、速度快、成本合理等，非常适合快速大量制造的需求。

现今从印刷电路板、显示器、LED到各种IC芯片的制造，黄光制程都是最重要的技术之一，而其中的关键性材料，就是成就精密图像的光阻材料。

康铨应用化学的技术团队于2007年组成，汇聚了来自台湾、日本与美国的技术菁英，核心成员均具有5~20年以上相关材料研发与制造资历。

自成立以来，首先配合客户开发出图案化蓝宝石基板(PSS)乾蚀刻专用的全套黄光材料，协助了台湾第一条乾蚀刻法PSS产线的成功量产，迄今维持积极与客户密切合作的核心竞争力，开发各项具有关键与挑战性的黄光微影蚀刻材料，目前产品已涵盖三个重要产业：

1. LED全制程黄光材料：多种规格的PSS专用光阻、MESA制程光阻剂、ITO与SiO2湿蚀刻用正型薄膜光阻、金属线路Lift-off制程用负型光阻、特殊制程用厚膜正型与负型光阻、蓝宝石基板用特殊助黏剂，以及显影液和光阻剥除剂等配套化学品等。

2. IC 封装材料：湿蚀刻用光阻、金属电镀用厚膜正型与负型光阻、封装用感光高分子材料、液态与乾膜光阻剥除剂，以及金属蚀刻液等。

3. 触控面板用黄光材料：ITO与SiO2湿蚀刻用正型薄膜光阻、黑色感光树脂、耐高温液态光学胶，以及显影液和光阻剥除剂等配套化学品等。

以开发各产业黄光蚀刻全制程齐全的材料解决方案为产品策略，康铨应化积极参与客户新产品研发，在了解客户需求后，能配合快速开发产品，定制化规格，成为光电产业客户的技术夥伴，提供台湾业界长年受制于外商之光电材料领域中另一优质且在地化的选择，预期将于两岸光电产业链的完善发展与生根，成为一股关键性的助力。