三星传大举采购20台ASML设备 产能、制程续抗衡SK海力士
- 陈玟静／综合报导
三星电子（Samsung Electronics）传于近期向ASML订购约20台用于10纳米以下超微细制程的极紫外光（EUV）曝光设备。业界认为，三星计划借此在超微细制程上与SK海力士（SK Hynix）、美光（Micron）等竞争对手维持压倒性差距。
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