英特尔最具High NA EUV实务经验 惟商业化仍存在限制
- 徐畇融／综合外电
英特尔（Intel）2024年在高数值孔径极紫外光（High NA EUV）微影技术推进上取得重大进展，已部署两台ASML Twinscan EXE:5000设备，自主开发光罩（reticle）、光学邻近修正（OPC）技术，并完成超过3万片晶圆的曝光测试。
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