ASML CEO回应张晓强 High-NA EUV可省下30%成本 智能应用 影音
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ASML CEO回应张晓强 High-NA EUV可省下30%成本

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    杨智家综合报导

台积电副共同营运长张晓强近日在台积电北美技术论坛表示,ASML高数值孔径极紫外光(High-NA EUV)微影设备非常昂贵。

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