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英特尔晶圆代工突破19微米极限 打造全球最薄GaN芯片

  • 张兴民整理

英特尔(Intel)近日宣布在晶圆代工领域取得重大技术突破,英特尔晶圆代工(Intel Foundry)成功制造出全球最薄的氮化镓(GaN)芯片,厚度仅19微米(μm)。GaN因优异的电气性能和耐高温特性,被广泛应用于射频、功率放...

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