放慢导入High NA EUV Rapidus效法台积稳紮稳打
- 梁燕蕙／综合报导
ASML日前在IMEC的ITF World 2024大会上宣布，其首台高数值孔径（High NA）极紫外光（EUV）曝光机，现已创下新的芯片制造密度纪录，超越了2个月前创下的数值。ASML前总裁兼技术长Martin van den ...
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