Canon NIL微影设备成本优势 挑战ASML EUV版图
- 江仁杰／综合报导
日本Canon会长、社长兼CEO御手洗富士强调，Canon推出的纳米压印微影（Nano Imprint Lithography；NIL）技术的半导体生产设备，比荷兰厂商ASML的极紫外光（EUV）曝光机，便宜1个位数（one digit less）。...
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