据了解,从90纳米往前推到28纳米,半导体制程强调「铜互连」的技术,低介电绝缘体与高介电金属闸极材料是大家关注的议题。28纳米之后到16/14纳米、10纳米之间,强调的是结构创新,FD-SOI、FinFET的架构大家朗朗上口。
在进入7纳米以下的尖端制程时,当然希望汇整两者的优点,在制程技术上找到突破口。因此,除了EUV的微影技术之外,在结构创新上摸索GAAFET的架构,在材料创新上利用氮化硼(hBN)与过渡金属二硫属化合物做为突破口,这是我们所理解的制程技术创新路径。
其实,这也是所有科技产业从技术到经营策略的进步模式。通常我们会从几条路径中,挑选一条路径,集中全力,尝试单点突破。只是「招式用老」之后,加上竞争者搅局,不断的创新是持盈保泰之道,这种案例随处可见。
以PC产业为例,过去经营品牌的业者,现在除了经营品牌之外,更深度布局系统整合的业务,希望创造更大的价值。过去遮遮掩掩的OEM制造大厂,已经不再忌讳品牌业者的压力,开始经营跨业、分众市场的商机。
做服务器的惠普(HP)、戴尔(Dell),面对亚马逊AWS、Facebook、微软(Microsoft)布局数据中心,怎可能束手就擒呢?谈智能医疗、工控商机的量产业者比比皆是,已经不能再以传统的观念看纬创、佳世达,甚至投资工控与电动车的富士康集团了。
回到需要庞大资源支撑的半导体产业,一个先进的半导体生产体系动辄百亿美元,台湾如果单靠自己的力量支撑整个工业体系,长此以往,未免不自量力。但如果能结合美国、日本、德国,甚至未来的印度、东协国家,普遍性的建立区域化生产体系,台湾也可以纾解经营压力、环境与电力成本。
特别是「台日」关系,一方面分散来自美国的压力,二方面台湾是日本平衡日韩产业关系的重要筹码,在日本缺乏先进制程的现实下,与关系友好的台湾结盟是必然的选择,何况台湾在人才、设备、材料上都很容易与日本相互支持,两者互蒙其利。
台湾已非吴下阿蒙,至少在半导体、ICT产业的供应链上可以与日本平起平坐,如何针对台日之间的产业关系,重新找到新的论述与合作机制,也是朝野在面对新局时可以多方思考的议题。