三星酝酿AI半导体绝地反攻 1c DRAM良率传突破50% 智能应用 影音
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三星酝酿AI半导体绝地反攻 1c DRAM良率传突破50%

  • 范维君综合报导

正值三星电子(Samsung Electronics)在高带宽存储器(HBM)市场面临挑战之际,其用于第六代HBM(HBM4)的10纳米级第六代1c DRAM,制程良率传出突破50%好消息,预计后续良率将快速爬升,助力三星在AI半导体市场的绝地大反攻。

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