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纬谦科技

美再设路障 确保国内IC设计无法借道超车

  • 刘宪杰台北

美国商务部上周推出更多对国内的技术管制,其中一项是禁止针对GAAFET晶体管架构的EDA软件输入国内,就实际意义来说,这等于是限制住国内IC设计未来在3纳米以下制程的发展,在没有EDA软件的支持下,国内IC设计未来将无法设计采用GAAFET架构的任...

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