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台积电、三星、英特尔向下推进3纳米EUV 双重曝光制程现挑战

  • 梁燕蕙/综合报导

自从台积电、三星电子(Samsung Electronics)先后顺利量产第一代5纳米EUV制程后,半导体产业正准备推进3纳米以下节点,下一阶段EUV微影技术迈进;然而许多挑战以及...

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