三星搁置High-NA EUV技术 恐落后英特尔2~3年 智能应用 影音
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三星搁置High-NA EUV技术 恐落后英特尔2~3年

  • 江承谕综合报导

英特尔(Intel)日前完成业界首台High-NA极紫外光(EUV)曝光设备组装,宣布最快2025年起导入1纳米级半导体生产。韩国业界认为以三星电子(Samsung Electronics)当前规划,若英特尔量产计划如期进行,High-NA EUV使用恐出现2...

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