英特尔High-NA EUV设备就绪 抢快采用避免重蹈覆辙?
- 蔡静珊/综合报导
英特尔晶圆代工(Intel Foundry)率业界之先,完成ASML首代高数值孔径(High-NA)极紫外光(EUV)微影设备Twinscan EXE:5000组装,接下来会进行校准并打出「第一道光」,预计2026~2027年投产Intel 14A(1.4纳米...
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