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全汉(伍艺超群专案)
20210325_D Webinar 2021 新兴科技论坛:量子科技的今生与来世

台积电、三星、英特尔向下推进3纳米EUV 双重曝光工艺现挑战

  • 梁燕蕙/综合报导

自从台积电、三星电子(Samsung Electronics)先后顺利量产第一代5纳米EUV工艺后,半导体产业正准备推进3纳米以下节点,下一阶段EUV微影技术迈进;然而许多挑战以及...责任编辑:舒能翊

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