台积电、三星、英特尔向下推进3纳米EUV 双重曝光工艺现挑战
- 梁燕蕙／综合报导
自从台积电、三星电子(Samsung Electronics)先后顺利量产第一代5纳米EUV工艺后，半导体产业正准备推进3纳米以下节点，下一阶段EUV微影技术迈进；然而许多挑战以及...责任编辑：舒能翊
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