Intel 14A制程率先采用 一窥ASML首台High-NA EUV技术细节
- 陈玉娟／新竹
英特尔近日宣布位于美国俄勒冈州希尔斯伯勒的英特尔研发基地中，研发人员已完成业界首台商用高数值孔径极紫外光微影设备（High NA EUV）组装。
此台由ASML供应的TWINSCAN EXE:5000 ...
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