制程持续推进 FinFET量测挑战大增
- 刘慧兰／综合报导
10/7纳米及更先进的半导体制程面临诸多挑战，其中一项就是量测方法(metrology)。量测是测量并将结构特徵化的一种技术，用以找出元件和制程问题，确保良率。28纳米以上的制程因晶体管是平面的，特徵尺寸也比较大，量测不成问题，然而每推进一个节点，量测就变得更加...
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