改善制程成本 默克推出全新环保光阻去除剂
- 陈玉娟／台北
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半导体材料大厂默克(Merck)正式宣布推出用于微影制程的全新系列环保化学品「AZ Remover 880」，此光阻去除剂采用全新配方、非基于会危害环境的NMP化学品系列中的第一款产品，可满足5G和先进晶圆级封装制程技术的需求，并克服掀离(lift-off)制程中...
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