分散风险 三星传9月量产1z DRAM、EUV制程11月导入
- 林瑜淳／综合报导
极紫外光(EUV)技术可让半导体曝光制程的微影成形简化，有助于业者降低生产成本。三星电子(Samsung Electronics)先前已开始将EUV曝光技术应用在晶圆代工量产，现在传出DRAM产线也预定在2019年底导入EUV曝光技术，为EUV导入存储器制...
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