传英特尔抢下5台High-NA EUV设备 韩厂最快要等到2H25
- 蔡云瑄/综合报导
到2025年上半,英特尔(Intel)传将取得多台ASML高数值孔径(High-NA)极紫外光(EUV)设备,因此三星电子(Samsung Electronics)、SK海力士(SK Hynix)等韩国业者最快可能要到2025年下半,方能引进High-NA ...
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